在壓鑄加工中所說的抛光與其他行業(例如鋁合金壓鑄、鋅合金壓鑄、鎂合金壓鑄)中所要求的表面抛光有很大的不同,嚴格來說,模具的抛光應該稱爲鏡面加工。它不僅對抛光本身有很高的要求並且對表面平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標准。表面抛光一般只要求獲得光亮的表面即可。鏡面加工的標准分爲四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由于電解抛光、流體抛光等方法很難精確控制零件的幾何精確度,而化學抛光、超聲波抛光、磁研磨抛光等方法的表面質量又達不到要求,所以精密模具的鏡面加工還是以機械抛光爲主。

機械抛光基本程序
要想獲得高質量的壓鑄模具抛光效果,最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙和鑽石研磨膏等抛光工具和輔助品。而抛光程序的選擇取決于前期加工後的表面狀況,如機械加工、電火花加工,磨加工等等。機械抛光的一般過程如下:
(1)粗抛
經铣、電火花、磨等工藝後的表面可以選擇轉速在35000—40000rpm的旋轉表面抛光機或超聲波研磨機進行抛光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA#400的輪子去除白色電火花層。然後是手工油石研磨,條狀油石加煤油作爲潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序爲#180~#240~#320~#400~#600~#800~#1000。許多鋁合金壓鑄模具廠爲了節約時間而選擇從#400開始。
(2)半精抛
半精抛主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次爲:#400~#600~#800~#1000~#1200~#1500。實際上#1500砂紙只用適于淬硬的模具鋼(52HRC以上),而不適用于預硬鋼,因爲這樣可能會導致預硬鋼件表面燒傷。
(3)精抛
精抛主要使用鑽石研磨膏。若用抛光布輪混合鑽石研磨粉或研磨膏進行研磨的話,則通常的研磨順序是9μm(#1800)~6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的鑽石研磨膏和抛光布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接着用粘毡和鑽石研磨膏進行抛光,順序爲1μm(#14000)~1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。
精度要求在1μm以上(包括1μm)的抛光工藝在模具加工車間中一個清潔的抛光室內即可進行。若進行更加精密的抛光則必需一個絕對潔淨的空間。灰塵、煙霧,頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個小時工作後得到的高精密抛光表面。